一、影響蒸鍍型氧化矽阻隔性包裝薄膜性（xìng）能的因素

蒸鍍基膜、蒸鍍方法、蒸鍍條件以及蒸鍍塗層（céng）的組成、蒸鍍層的厚度等，都可能對蒸鍍型氧化矽阻（zǔ）隔性包裝薄膜的性（xìng）能產生（shēng）巨大的影（yǐng）響。

1.基材的選擇性
如前所（suǒ）述，蒸鍍型氧化矽阻（zǔ）隔性包裝薄膜的阻隔性依靠（kào）於SiOx塗層，因此在蒸煮處理過程中，不能破壞該塗層。蒸鍍型氧化矽阻隔性包裝薄膜通常與其他薄膜複合，製（zhì）造蒸煮薄膜，選擇蒸煮基材應當注意如下幾個問題。

（1)塑料薄膜的類型（xíng）

蒸鍍的氧化矽膜（mó）與塑料薄（báo）膜之間的黏合牢度與塑料基膜（mó）種類之間有較大的關係，PET、PVC等極性較大的薄膜與氧化矽間的（de）黏合性（xìng）較佳，而非極性的薄膜，與氧化矽間的（de）黏（nián）合力（lì）則比較（jiào）差。

（2)塑料薄膜表麵狀態

蒸鍍型氧化矽阻隔性包裝薄膜的阻隔性（xìng），除（chú）了（le）受蒸鍍層的厚度影響之外，更大程度上決定於氧化矽鍍層的均勻性。裂縫、針孔等缺欠，會導致（zhì）蒸鍍型氧化矽阻隔性包裝薄膜（mó）的阻隔性明顯下（xià）降，缺陷的形成除了蒸鍍層本身的化學成分與結構之外，所用基膜的表麵平滑性（xìng），也是一個重要因素，粗糙度越大（dà），越容易（yì）造（zào）成蒸（zhēng）鍍（dù）缺陷，但適量的粗糙度會使蒸鍍層（céng）和基膜的表麵之間形成物理（lǐ）錨接，改善層間黏合力。

（3)塑料薄（báo）膜的表麵預處（chù）理狀況

為了得（dé）到優質的蒸鍍薄膜，對基膜進行適度的表麵電暈處理是十分必要的。塑料薄膜經過表麵電暈處理，可在其表麵形成氧化層（通過交聯、臭氧化（huà）、羧基化（huà）、硝基化等多種複雜的化（huà）學（xué）反應，將氧、氮等原子及原子（zǐ）團引入到塑料薄膜的表麵（miàn）上），增大基膜（mó）與蒸鍍塗層之間的結合力。在預處理設備（bèi）一定的情況（kuàng）下，如果預處理時間不足，表麵改性（xìng）不充分，將導致基膜與塗層之間的結合牢度下（xià）降；預處理時間過長，可能引起基膜較深層次的界麵弱化，產生基膜自身的弱界麵（miàn）層，也會引起基材表麵和蒸鍍（dù）層間的結合力下降。

2.蒸鍍工藝條件對蒸鍍（dù）型氧化矽阻隔性包裝薄膜性（xìng）能的影響

不論采用（yòng）物理蒸鍍或者化學蒸鍍，蒸鍍（dù）工藝條件都可能對蒸鍍型氧化矽阻（zǔ）隔性包裝薄膜的性（xìng）能（néng）產（chǎn）生顯著的（de）影響，因此應當盡可能采用有利於提高蒸鍍薄膜（mó）阻隔（gé）性的工藝條（tiáo）件。

（1)采用物理蒸鍍時，

真空度的（de）高低、基材薄膜的溫度、電子槍的功率、蒸鍍（dù）原料SiO2的形狀、真空室中氧氣導入的速度、蒸鍍塗層（céng）的厚度（dù）（決（jué）定於蒸（zhēng）鍍時間（jiān）與蒸發功率）等（děng）均會影響最終產品的性（xìng）能。

①蒸鍍時真空度（dù）越高，越有利於SiO2的蒸發，製得的蒸鍍膜的質量（liàng）越高。

②蒸鍍（dù）時塑料基膜的溫度高，有利（lì）於蒸發的（de）SiO,在塑料基膜上（shàng）沉積、形成致密的塗層並有利於提高蒸鍍層（céng）與塑料基膜間的（de）黏結度，因此適當提高塑料基（jī）膜的溫（wēn）度，有利（lì）於提（tí）高蒸鍍薄（báo）膜的質量。

③采用電子槍轟擊、蒸發SiO2時，宜使用塊狀的（de）SiO2,因為粉狀的SiO2在受電子槍轟擊時，易產生粉末濺射現象，影響蒸鍍膜的質量，而粉狀SiO2則有（yǒu）利於電阻加熱蒸發。

④氧氣的導入速度影響蒸鍍層的組成，即SiOx中Si原子數與（yǔ）0原子（zǐ）數的比值，氧的量越大，即x的值越大，蒸鍍層向透明性提高（gāo）的方向移動，但阻隔性有降低的趨（qū）勢（shì）。當（dāng）x等於2時，得到（dào）阻隔性能差的、無色透明的蒸鍍層，通常x控製在1.5~1.8之間以獲得兼具高阻隔性及良好透明性的蒸鍍氧化矽薄膜。

蒸鍍層的厚度增加，蒸鍍膜（mó）的阻隔性增加（jiā），但當蒸鍍層的厚度超過50nm時，蒸鍍層的厚度再（zài）進一步增大，蒸鍍（dù）膜的阻隔性基本保持不變，因此不（bú）能指（zhǐ）望（wàng）依靠降低生產線的線（xiàn）速度（增加蒸鍍時（shí）間）、增加蒸鍍層的厚度的辦法，無（wú）限度地提高蒸鍍薄膜的阻隔性。

（2)化（huà）學蒸（zhēng）鍍中，高頻電磁波或微（wēi）波頻率的選擇，應與離子化氣氛中的離子化能量以及（jí）蒸鍍材料離子化所需要的能量相匹配，高頻電磁波一般選用（yòng）13.56MHz,微（wēi）波一般選用2.45MHz,真（zhēn）空度在（zài）10-2Pa左右（yòu）即可獲得優良的（de）蒸鍍效果，而物理蒸鍍時則需要更（gèng）高的真空度，即10-2~10-3Pa或者更高的真空度。

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